Share:


Experiment plan for researches of polishing process of optical details

Abstract

Descriptions of polishing process, using technologies, materials of optical details are given in this article. High quality requirements are raising for optical details – smoothness of surface, non-existence of effects, form deflections, which are obtainable in polishing process. Results of modelling and experimental data are given in published scientist researches; various cutting rates were used in polishing process. Experiment plan for polishing plane details from optical glass BK7 with different cutting rates is given in this article. Multicriterion optimization in polishing process using for high quality optical details.

Article in Lithuanian.


Optinių detalių poliravimo proceso eksperimentinio tyrimo planavimas

Santrauka 

Straipsnyje aprašomas optinių detalių poliravimo procesas, naudojamosios technologijos ir medžiagos. Optinėms detalėms keliami aukšti tikslumo reikalavimai – paviršiaus glotnumo, defektų nebuvimo, formos nuokrypių ir kt., jie gau­nami poliravimo proceso metu. Mokslininkų paskelbtuose tyrimuose pateikiami modeliavimo rezultatai, gauti eksperimentų metu, tirtos įvairios apdirbamosios medžiagos, jų paviršiaus kokybė, poliruota įvairiais pjovimo režimais. Šiame straipsnyje aprašomas eksperimento planas, skirtas plokščioms detalėms iš optinio stiklo BK7 poliruoti, kai varijuojama keliais apdirbimo režimais. Siekiama gauti aukštą gaminių kokybę daugiakriterio optimizavimo būdu.

Reikšminiai žodžiai: BK7, eksperimento planas, kintamieji poliravimo procese, paviršiaus kokybė, poliravimas.

Keyword : BK7, experiment plan, factors in polishing process, polishing, surface quality

How to Cite
Švagždytė, I., & Jurevičius, M. (2017). Experiment plan for researches of polishing process of optical details. Mokslas – Lietuvos Ateitis / Science – Future of Lithuania, 8(6), 563-566. https://doi.org/10.3846/mla.2016.977
Published in Issue
Jan 18, 2017
Abstract Views
504
PDF Downloads
373
Creative Commons License

This work is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.